核心提示:一种浮雕型波导结构及其制作方法,包括如下步骤:第一步,在高折射率基底的表面依次覆盖一层高折射率材质层和一层低折射率材质层;第二步,在所述低折射率材质层上形成纳米结构图案,将所述纳米结构图案转移至所述高...
一种浮雕型波导结构及其制作方法,包括如下步骤:第一步,在高折射率基底的表面依次覆盖一层高折射率材质层和一层低折射率材质层;第二步,在所述低折射率材质层上形成纳米结构图案,将所述纳米结构图案转移至所述高折射率材质层;第三步,清除所述低折射率材质层,获得具有高折射率纳米结构的高折射率基底。本发明所述的浮雕型波导结构的制作方法确实解决了现有技术中高折射率基底刻蚀难度大的问题,另辟蹊径解决了制造难度,推进显示技术的发展。