半导体设备及半导体工艺方法

一种半导体设备及半导体工艺方法。设备包括托盘、顶针及喷气装置；托盘上设置有若干个贯穿托盘的通孔，顶针一一对应设置在通孔内，且可在通孔内上下移动；喷气装置与气体源相连通，包括若干个第一喷气管和若干个第二喷气管，若干个第一喷气管一一对应位于顶针的下方，若干个第二喷气管位于托盘的下方，通过改变第一喷气管内和第二喷气管内的气体流量，改变托盘及顶针的高度。本发明创造性地用气致悬浮结构代替传统的步进机械传动结构，根据工艺需要可以通过调节托举用气体的流量改变托盘和顶针之间的距离，由此改变托盘与基板的距离，可以在提高工艺均匀性的同时有效避免机械传动方式下容易造成工艺污染等问题，有助于提高工艺良率。

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